LPCVD設備（M80110-10/UM型）
關鍵詞：
泛半導體高端工藝裝備制造商、智能制造和整線集成解決方案提供商
LPCVD設備（M80110-10/UM型）
LPCVD設備（M80110-10/UM型）
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低壓化學氣相淀積設備（LPCVD）主要用于TOPCon電池工藝、XBC電池工藝的poly-si及隧穿氧化層沉積。
設備特點
· 硅片尺寸可兼容至230mm
· 采用截面控溫技術，確保工藝區溫度的均勻性與穩定性
· 開發全新高精度溫區同步溫控、環形進氣、氣體補償注入等技術，確保薄膜質量和均勻性
· 法蘭密封系統，采用雙層水冷密封結構，氣密性好，密封圈使用壽命更長
· 采用涂層技術，充分延長石英管的使用壽命
· 具備快速冷卻功能，提高設備產出且工藝效果更優
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